鍍膜控制方法是石英晶體微量平衡法，這種儀器可以直接驅(qū)動(dòng)蒸發(fā)源，通過PID控制循環(huán)驅(qū)動(dòng)擋板，保持蒸發(fā)速率。只要將儀器與系統(tǒng)控制軟件相連接，它就可以控制整個(gè)的鍍膜過程。但是(QCM)的精確度是有限的，部分原因是由于它監(jiān)控的是被鍍膜的質(zhì)量而不是其光學(xué)厚度。此外雖然QCM在較低溫度下非常穩(wěn)定，但溫度較高時(shí)，它會(huì)變得對(duì)溫度非常敏感。在長(zhǎng)時(shí)間的加熱過程中，很難阻止傳感器跌入這個(gè)敏感區(qū)域，從而對(duì)膜層造成重大誤差。
光學(xué)監(jiān)控是高精密鍍膜的的首選監(jiān)控方式，這是因?yàn)樗梢愿_地控制膜層厚度。精確度的改進(jìn)源于很多因素,但最根本的原因是對(duì)光學(xué)厚度的監(jiān)控。OPTIMALSWA-I-05單波長(zhǎng)光學(xué)監(jiān)控系統(tǒng)，是采用間接測(cè)控，能夠有效提高光學(xué)反應(yīng)對(duì)膜厚度變化靈敏度的理論和方法來減少終極誤差，提供了反饋或傳輸?shù)倪x擇模式和大范圍的監(jiān)測(cè)波長(zhǎng)。特別適合于各種膜厚的鍍膜監(jiān)控包括非規(guī)整膜監(jiān)控。
